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Lithografie

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Spin Coating Prozesse, Kontakt- und Proximitybelichtung mit Maskaligner,
Projektionsbelichtung mit automatischem Repeater, Elektronenstrahlbelichtung  
 








 
 
Beispiel
 
mikro_litho.gif Optische Filterchips für Mondmission

Im Rahmen dieses Projektes wurde in Zusammenarbeit mit der OIB (Optische Interferenzbauelemente) GmbH Jena ein Chip mit unterschiedlichen Spektralfilterbereichen (focal plane filter mosaic) entwickelt. Es bestanden hohe Anforderung an die Kantendefinition und Geometrie der Filterbereiche.

Die benötigten Kantenqualitäten überstiegen die Grenzen konventionell verfügbarer Technologien. Mit Hilfe von speziell angepassten fotolithographischen Methoden konnte das komplexe Dünnschichtsystem auf beiden Seiten des Glassubstrates realisiert werden. Das funktionsbestimmende Bauelement für die einzigartige Spektralkamera hat sich im Weltraumeinsatz bewährt.
 

 
 
 
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